第414章 你到底为什么回国?(1 / 3)

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徐佑知道,黄思白最近一直在魔都,想要来蓟京大学一趟,其实还是挺不容易的。

“最近还好,也正好要回总公司一趟,所以就过来找您了。”黄思白笑着说道。

听黄思白这么说,徐佑总算没有什么心理负担了。

简单的询问了几句后,黄思白开始详细的给徐佑讲解起了,自己最近的这个成果。

“徐教授,最近我做的研究,是有关EUV光刻机的三维掩模成像技术。”

“三维掩模成型技术?”徐佑问道。

“是的,徐教授。三维掩模成像技术,对EUV光刻成像质量有很大的影响。三维掩模成像模型,是进行EUV光刻成像仿真的基础。”

简单的说,光刻机的工作原理,与照相机有一些类似。

光刻机发出的光,通过具有图形的光罩,能够对涂有光刻胶的薄片曝光。

光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上的图形复印到薄片上。

这样一来,薄片就具有电子线路图的作用了。

只是,与照相机的二维成像不同,光刻机光刻出的电子元件和电路图,是三维的成像。

这就是黄思白这项成果的重要意义。

听着黄思白的讲解,徐佑越发的兴奋起来。

“黄工,你带相关的资料过来了吗?可不可以让我看一下更详细的内容?”

“嗯,徐教授,我带了,等我开一下电脑。”

黄思白也是第一次和徐佑进行学术上的交流,显得有些紧张和激动。

黄思白没有想到,徐佑对于这些不属于他领域上的学术问题,竟然会问得这么仔细。

徐佑的专业程度,甚至并不亚于EUV光刻机项目组的那些科研人员。

“黄工,这里掩模衍射谱的计算,是通过傅里叶变换得到的吧?”徐佑指着资料中的一处问道。

“是的,徐教授,当掩模厚度较小,掩模图形尺寸较大时,掩模衍射谱可以采用薄掩模模型计算。通过傅里叶变换,得到掩模Kirchhoff远场衍射的结果……”

“黄工,这里是不是用到了厄米对称性的性质?”

“没错。为了进一步提高Hopkin