第二百六十九章 意外(2 / 5)

,所以X光刻机的结构和各部分零部件都已经确定好了,这段时间一直都在进行着这方面的工作,国家给X光计划批准的五十亿元,很大一部分就是为了订购这些零部件准备的。

当然,由于光刻机对精密程度的要求十分高,所以即使是那些非核心部位的零部件,对精度上的要求也是比较高的,因而这部分的事情,也仍然需要一定的时间。

最后,就是林晓现在所负责的晶体透镜技术攻克项目了,当然他的攻克小组中的成员倒是都没有闲着,而是继续做着其他的任务,另外三位教授知道林晓在攻克理论上的问题,这方面他们插不了手,于是就又计算出了好几种能够实现对X光放大缩小的结构。

这些结构在所选元素上不尽相同,除了之前他们搞出来的那种纯硅晶体,现在又搞出了碳化硅晶体,以及其他一些非单质的晶体,这样一来,他们的备选方案也就多了,只要林晓在理论上完成了突破,他们就能根据这多种方案,选出其中成本最低的一种。

所以,这件事情还是得等林晓先把电子拓扑成键理论给搞出来了再说。

当然,林晓作为这些工作的领导,尽管他主要负责的还是技术上面的东西,不过过年期间的安排,还是得由他下达的。

随后,他便拿出手机开始安排了起来。

首先是他们的副总设计师,这位副总师叫杨凯平,本身是魔都微电子集团光刻机的首席研发人员,在魔都微电子集团研发的600系列光刻机中贡献了巨大的力量。

魔都微电子的600系列光刻机,其采用ArF准分子激光光源,和DUV光刻机一样,不过因为技术上的差距,600系列光刻机只能用来生产90nm芯片的光刻机,90nm看起来很拉,远不如能生产7nm的DUV和4nm的EUV,但对于华国来说,已经属于一项十分巨大的突破了。

要知道,世界上能造光刻机的公司,如果只算最出名的,那就是阿斯麦尔、尼康和佳能,这是TOP3,如果要算TOP4的话,那就只有魔都微电子能排上号了。

甚至因为外国基本不给华国卖光刻机,只给卖DUV,以至于魔都微电子的光刻机在国内市占率高达80%,从某种程度上来说,算得上是“赢麻了”。

当然,也正是魔都微电子所作出的这种突破,才使得国外厂商生出忌惮,很大一部分程度上才使得阿斯麦尔一改往日态度,批准了DUV光刻机的对华出售,为华国带来了一定的缓解。

也正因为如此,这